美國 beneq TFS 500 ALD反應器（臭氧可選）

來源：m.wfzcw.cn 作者：同林臭氧時間：2023-05-24 11:47

美國 beneq TFS 500 ALD反應器（臭氧可選）

TFS 500 是薄膜鍍膜應用中各種用途的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應器模型，它已被證明是用于深入 ALD 研究和穩健批處理的多功能工具。TFS 500 是多項目環境的理想工具。

TFS 500 可以處理多種類型的基板;晶圓、平面物體、顆粒和多孔散裝材料，以及具有高縱橫比特征的復雜 3D 物體。它可以進一步配備手動操作的負載鎖，以提高晶圓加工能力。不同類型的反應室可以很容易地安裝在真空室內，從而可以針對每個客戶應用優化每個反應室。

TFS 500既滿足工業可靠性的嚴格要求，又滿足研發運營靈活性的需求。工藝組件是現成的物品，可確保備件的可用性。所有前驅體容器都可以在短時間內輕松更換。前驅體準備包括氣體、液體和固體材料。為了在前驅體選擇方面具有充分的靈活性，我們還增加了 500 °C 熱源選項。

自2014年以來，Beneq一直與MBRAUN合作，通過提供交鑰匙研發解決方案來滿足不斷增長的OLED市場需求。此次合作的目標是將 Beneq 突破性薄膜封裝技術的公認專業知識與 MBRAUN 的手套箱、定制外殼和獨立單元相結合。

參數

工藝類型

熱原子層沉積

等離子增強原子層沉積

基板類型

高達 300 mm 的晶圓

高達 370 x 470 mm 玻璃

300 x 420 mm 批量

3D 零件

粉

基板裝載

自動

手動

主要尺寸

1600 x 900 x 1930 毫米

集成

手套箱

負載鎖定

簇

主要尺寸，電柜（長×寬×高）

1000 × 300 × 1600 mm

工藝溫度范圍

25 – 500 °C

反應室類型和尺寸

單晶圓： ?200 × 3 （mm） / ?300 × 25 （mm）

單晶圓等離子： ?200 × 3 mm / ?300 × 3 mm

3D/批晶圓：?200 × 170 mm

3D/批次：450 × 300 × 250 mm

粉末： ?80 × 50 mm

太陽能電池批次：156×156毫米，100個

天然氣管線

很多 5 個

液體源（+5 °C 至環境溫度）

很多 4 個

熱源 HS 300（室溫至 300 °C）

很多 4 個

熱源 HS 500（室溫至 500 °C）

很多 2 個

自選

CCP等離子體源（電容耦合）

手動裝載鎖定

控制系統

帶 PC 用戶界面的 PLC 控制

ALD配套臭氧設備

臭氧發生器：Atals H30

臭氧分解器：F1000

臭氧在線檢測儀：3S-J5000

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